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分析高通量組織球磨儀的工藝技術(shù)

更新時(shí)間:2019-12-13

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  高通量組織球磨儀為精密研磨拋光設(shè)備,被磨、拋材料放于平整的研磨盤上,研磨盤逆時(shí)鐘轉(zhuǎn)動(dòng),修正輪帶動(dòng)工件自轉(zhuǎn),重力加壓或其它方式對(duì)工件施壓,工件與研磨盤作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦,來(lái)達(dá)到研磨拋光目的。高通量組織冷凍研磨機(jī)被廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
  高通量組織球磨儀工藝技術(shù):
  平整度:
  工件的平整度取決于磨盤的平整度。隨著加工領(lǐng)域的不斷深化及精度和效率要求越來(lái)越高:“WEIANDA”從鑄鐵盤、合成盤、銅盤、純錫盤、樹脂盤發(fā)展到金剛石盤,并通過(guò)各種方法把盤的平面訂修到佳達(dá)2um。
  粗糙度:
  表面粗糙度取決于磨料顆粒的大小、形狀和磨盤的材料,以及工件材質(zhì)及硬度。
  粗磨:
  利用較粗顆粒度的磨料在磨盤與工件面上磨削,進(jìn)刀量大、效率高;但磨削面較粗,適用于磨削余量較多之工作。
  中磨:
  利用中度顆粒的磨料在磨盤與工件面上磨削,進(jìn)刀量快、效率高,表面粗糙度適中,適合磨削量一般之工件。
  精磨:
  利用較細(xì)顆粒度的磨料在磨盤中與工件面上磨削,進(jìn)刀量較小、表面光潔度好,磨削痕均勻而細(xì)。
  軟拋光:
  利用磨盤上加裝一個(gè)特殊材料拋光墊或拋光布,拋光料在拋光墊或拋光布之間運(yùn)動(dòng),使工件比硬拋光更有超鏡子一樣的高光潔度。
  硬拋光:
  利用合成盤、銅盤、錫盤、樹脂盤等非常高精密度的基面加入微米級(jí)金剛石磨料,使工件表面變得既高精密平面度,又有像鏡子一樣的高光潔度。
  
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